第二屆國際PROLITH光刻仿真技術(shù)研討會在北理工召開
發(fā)布日期：2014-04-25 供稿：光電學(xué)院 馬旭 攝影：新聞中心 斯君
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北京理工大學(xué)周立偉院士、光電學(xué)院薛唯院長、郝群書記、許廷發(fā)副院長、趙長明副院長等出席了會議。中國和美國相關(guān)企業(yè)、科研院所和高校的光刻技術(shù)領(lǐng)域的專家、學(xué)者40余人參加了會議。會議由Anchor Semiconductor 公司副總裁Kenneth Wang主持。首先，光電學(xué)院院長薛唯教授致開幕詞。隨后，光電學(xué)院李艷秋教授委托馬旭教授匯報了三方合作協(xié)議框架下的研究工作進展，介紹了先進光刻仿真技術(shù)的研究成果和人才培養(yǎng)方面的最新合作進展。重點介紹了北京理工大學(xué)在嚴(yán)格矢量光刻成像及分辨率增強技術(shù)、多參數(shù)協(xié)同優(yōu)化技術(shù)等方面取得了國際領(lǐng)先的科研成果，建立了國內(nèi)首款“集成光刻仿真軟件平臺”和國內(nèi)首套“光刻模擬研究和分析數(shù)據(jù)庫”。
KLA-Tencor公司高級主管Patrick Lee先生和技術(shù)主管Stewart Robertson先生等為大會做了5項報告，介紹了該公司及其合作伙伴在先進光刻仿真、光刻工藝研發(fā)、光刻設(shè)備評估和驗證等領(lǐng)域的最新研發(fā)進展。最后，北京理工大學(xué)為來賓提供了專業(yè)PROLITH軟件應(yīng)用基礎(chǔ)培訓(xùn)，KLA-Tencor主管Patrick Lee為北京理工大學(xué)頒發(fā)了培訓(xùn)證書。
會議期間，參會者進行了充分的技術(shù)交流。會后，部分來賓參觀了李艷秋教授課題組的光刻仿真實驗室和高分辨成像及檢測技術(shù)實驗室。本屆會議進一步擴大了中國光刻仿真技術(shù)在國際相關(guān)領(lǐng)域的影響，促進了中美兩國在該技術(shù)領(lǐng)域的深入合作，也為我校今后開展國內(nèi)外產(chǎn)、學(xué)、研實質(zhì)性合作及人才培養(yǎng)奠定了重要基礎(chǔ)。
